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H 冶金
金屬化學分析方法
半金屬及半導體材料分析方法
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GB/T 37385-2019
硅中氯離子含量的測定 離子色譜法
國家市場監督管理總局..
2019-11-28
現行
GB/T 35306-2017
硅單晶中碳、氧含量的測定 低溫傅立葉變換紅外光譜法
中華人民共和國國家質..
2018-07-01
現行
GB/T 35309-2017
用區熔法和光譜分析法評價顆粒狀多晶硅的規程
中華人民共和國國家質..
2018-07-01
現行
GB/T 17170-2015
半絕緣砷化鎵單晶深施主EL2濃度紅外吸收測試方法
中華人民共和國國家質..
2016-07-01
現行
GB/T 19199-2015
半絕緣砷化鎵單晶中碳濃度的紅外吸收測試方法
中華人民共和國國家質..
2016-07-01
現行
GB/T 24578-2015
硅片表面金屬沾污的全反射X光熒光光譜測試方法
中華人民共和國國家質..
2017-01-01
現行
GB/T 32277-2015
硅的儀器中子活化分析測試方法
中華人民共和國國家質..
2017-01-01
現行
GB/T 32281-2015
太陽能級硅片和硅料中氧、碳、硼和磷量的測定 二次離子質譜法
中華人民共和國國家質..
2017-01-01
現行
YS/T 1059-2015
硅外延用三氯氫硅中總碳的測定 氣相色譜法
中華人民共和國工業和..
2022-08-23
現行
YS/T 1060-2015
硅外延用三氯氫硅中其他氯硅烷含量的測定 氣相色譜法
中華人民共和國工業和..
2015-10-01
現行
YS/T 980-2014
高純三氧化二鎵雜質含量的測定 電感耦合等離子體質譜法
中華人民共和國工業和..
2015-04-01
現行
YS/T 981.1-2014
高純銦化學分析方法 鎂、鋁、硅、硫、鐵、鎳、銅、鋅、砷、銀、鎘、錫、鉈、鉛的測定 高質量分辨率輝光放電質譜法
中華人民共和國工業和..
2015-04-01
現行
YS/T 34.1-2011
高純砷化學分析方法 電感耦合等離子體質譜法(ICP-MS)測定高純砷中雜質含量
中華人民共和國工業和..
2012-07-01
現行
YS/T 34.2-2011
高純砷化學分析方法 極譜法測定硒量
中華人民共和國工業和..
2012-07-01
現行
YS/T 34.3-2011
高純砷化學分析方法 極譜法測定硫量
中華人民共和國工業和..
2012-07-01
現行
GB/T 26067-2010
硅片切口尺寸測試方法
中華人民共和國國家質..
2011-10-01
現行
GB/T 26070-2010
化合物半導體拋光晶片亞表面損傷的反射差分譜測試方法
中華人民共和國國家質..
2011-10-01
現行
GB/T 26074-2010
鍺單晶電阻率直流四探針測量方法
中華人民共和國國家質..
2011-10-01
現行
YS/T 226.9-2009
硒化學分析方法 第9部分:鐵量的測定 火焰原子吸收光譜法
中華人民共和國工業和..
2010-06-01
現行
YS/T 226.1-2009
硒化學分析方法 第1部分:鉍量的測定 氫化物發生-原子熒光光譜法
中華人民共和國工業和..
2010-06-01
現行
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