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BS EN 62047-2:2006現(xiàn)行

Semiconductor devices. Micro-electromechanical devices. Tensile testing method of thin film materials

出版：British Standards Institution

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基本信息
標(biāo)準(zhǔn)編號(hào)： BS EN 62047-2:2006
發(fā)布時(shí)間：2006/11/30 0:00:00
標(biāo)準(zhǔn)類別：Standard
出版單位：British Standards Institution
標(biāo)準(zhǔn)頁數(shù)：16
標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)介

Specifies the method for tensile testing of thin film materials with length and width under 1 mm and thickness under 10[mu]m, which are main structural materials for micro-electromechanical systems (MEMS), micromachines and similar devices.

標(biāo)準(zhǔn)備注

? British Standards Institution 2013

等同采用的國際標(biāo)準(zhǔn)

DIN EN 62047-2 : 2007 - Identical

I.S. EN 62047-2:2006 - Identical

I.S. EN 62047-2:2006 - Identical

DIN EN 62047-2 : 2007 - Identical

IEC 62047-2 : 1.0 - Identical

NBN EN 62047-2 : 2007 - Identical

NF EN 62047-2 : 2006 - Identical

EN 62047-2 : 2006 - Identical

NF EN 62047-2:2006 - Identical

I.S. EN 62047-2:2006 - Identical

IEC 62047-2 Ed. 1.0 - Identical

DIN EN 62047-2 (2007-02) - Identical

NBN EN 62047-2:2007 - Identical