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NF EN 62047-2:2006現(xiàn)行

Semiconductor Devices - Micro-electromechanical Devices - Part 2: Tensile Testing Methods Of Thin Film Materials

出版：Association Francaise de Normalisation

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基本信息
標(biāo)準(zhǔn)編號： NF EN 62047-2:2006
發(fā)布時(shí)間：2006/11/1 0:00:00
標(biāo)準(zhǔn)類別：Standard
出版單位：Association Francaise de Normalisation
標(biāo)準(zhǔn)頁數(shù)：15
標(biāo)準(zhǔn)簡介

Specifies the method for tensile testing of thin film materials with length and width under 1 mm and thickness under 10[mu]m, which are main structural materials for micro-electromechanical systems (MEMS), micromachines and similar devices.

標(biāo)準(zhǔn)備注

Indice de classement: C96-050-2 PR NF EN 62047-2 June 2005. (06/2005)

等同采用的國際標(biāo)準(zhǔn)

I.S. EN 62047-2:2006 - Identical

IEC 62047-2 Ed. 1.0 - Identical

BS EN 62047-2:2006 - Identical

DIN EN 62047-2 (2007-02) - Identical

NBN EN 62047-2:2007 - Identical