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砷化鎵拋光片亞損傷層的X射線雙晶衍射試驗方法
砷化鎵拋光片亞損傷層的X射線雙晶衍射試驗方法 現(xiàn)行
Test method for sub-surface damege of gallium arsenide polished wafer by X-ray double crystal diffraction
標準號：SJ 20714-1998
基本信息
標準號：SJ 20714-1998
發(fā)布時間：1998-03-18
實施時間：1998-05-01
首發(fā)日期：
出版單位：電子工業(yè)出版社查看詳情>
起草人：張世敏、郝建民、段曙光
出版機構(gòu)：電子工業(yè)出版社
標準分類：
>>>>L5971
起草單位：電子工業(yè)部第四十六研究所
歸口單位：中國電子技術(shù)標準化研究所
發(fā)布部門：中華人民共和國電子工業(yè)部
標準簡介
本規(guī)范規(guī)定了砷化鎵拋光片亞損傷層的X射線雙晶衍射試驗方法。本規(guī)范適用于經(jīng)過化學、機械單面和雙面拋光的砷化鎵拋光片亞損傷層的定性測量。
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