300？900 UM 硅片間隙氧含量紅外吸收測量方法 已作廢
300～900μm Silicon slices－Measuring of interstitial oxygen content－Infrared absorption method
標準號：GB/T 14143-1993
基本信息
標準號：GB/T 14143-1993
發布時間：1993-02-06
實施時間：1993-10-01
首發日期：1993-02-06
出版單位：中國標準出版社查看詳情>
起草人：
作廢日期：2006-11-01
出版機構：中國標準出版社
標準分類： 金屬無損檢驗方法
ICS分類：
29.040.30
起草單位：機電部第四十六研究所
歸口單位：中國有色金屬工業協會
發布部門：國家技術監督局
主管部門：中國有色金屬工業協會
標準簡介
本標準規定了用紅外吸收法測定厚度為300~900μm的硅片間隙氧含量的方法。本標準適用于室溫電阻率大于0.1Ω·cm的硅片間隙氧含量的測量。
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