
Silicon epitaxial wafers
標(biāo)準(zhǔn)號:GB/T 14139-1993
基本信息
標(biāo)準(zhǔn)號:GB/T 14139-1993
發(fā)布時間:1993-02-06
實(shí)施時間:1993-10-01
首發(fā)日期:1993-02-06
出版單位:中國標(biāo)準(zhǔn)出版社查看詳情>
起草人:
作廢日期:2010-06-01
出版機(jī)構(gòu):中國標(biāo)準(zhǔn)出版社
標(biāo)準(zhǔn)分類: 半金屬
ICS分類:
29.040.30
起草單位:上海第二冶煉廠
歸口單位:全國半導(dǎo)體材料和設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會
發(fā)布部門:國家技術(shù)監(jiān)督局
主管部門:國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
標(biāo)準(zhǔn)簡介
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了硅外延片的產(chǎn)品分類、技術(shù)要求、試驗(yàn)方法和檢驗(yàn)規(guī)則及標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸、貯存。本標(biāo)準(zhǔn)適用于在N型硅拋光片襯底上生長的N型外延層(N/N+)和在P型硅拋光片襯底上生長的P型外延層(P/P+)的同質(zhì)硅外延片。產(chǎn)品用于制作半導(dǎo)體器件。
推薦檢測機(jī)構(gòu)
申請入駐
暫未檢測到相關(guān)機(jī)構(gòu),邀您申請入駐~
推薦認(rèn)證機(jī)構(gòu)
申請入駐
暫未檢測到相關(guān)機(jī)構(gòu),邀您申請入駐~
推薦培訓(xùn)機(jī)構(gòu)
申請入駐
暫未檢測到相關(guān)機(jī)構(gòu),邀您申請入駐~