
Nano Sub-micron scale film on steel - Quantitative depth profile analysis - Glow discharge atomic emission spectrometry
標準號:GB/T 22462-2008
基本信息
標準號:GB/T 22462-2008
發布時間:2008-10-30
實施時間:2009-06-01
首發日期:2008-10-30
出版單位:中國標準出版社查看詳情>
起草人:張毅、陳英穎、沈電洪、劉芬、何曉蕾、鄔君飛、欒燕
出版機構:中國標準出版社
標準分類: 基礎標準與通用方法
ICS分類:光學和光學測量
提出單位:全國微束分析標準化技術委員會
起草單位:寶山鋼鐵股份有限公司、中國科學院物理研究所、中國科學院化學研究所、冶金工業信息標準研究院
歸口單位:全國微束分析標準化技術委員會(SAC/TC 38)
發布部門:中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局 中國國家標準化管理委員會
主管部門:全國微束分析標準化技術委員會(SAC/TC 38)
標準簡介
本標準采用輝光放電原子發射光譜法用于定量測定鋼表面納米、亞微米尺度薄膜(金屬鍍膜和氧化膜)中膜厚、鍍層質量(單位面積)和薄膜中的元素深度分布。本方法適用于測定3nm~1000nm厚度的鋼表面薄膜,適用的元素包括:鐵、鉻、鎳、銅、鈦、錳、鋁、碳、磷、氧、氮和硅。
標準摘要
本標準的附錄A、附錄B均為資料性附錄,附錄C 為規范性附錄。 本標準由全國微束分析標準化技術委員會提出。 本標準由全國微束分析標準化技術委員會(SAC/TC38)歸口。 本標準負責起草單位:寶山鋼鐵股份有限公司、中國科學院物理研究所、中國科學院化學研究所、冶金工業信息標準研究院。 本標準主要起草人:張毅、陳英穎、沈電洪、劉芬、何曉蕾、鄔君飛、欒燕。 |
標準目錄
前言Ⅲ 1 范圍1 2 規范性引用文件1 3 術語和定義1 4 原理1 5 儀器2 5.1 概述2 5.2 儀器性能要求2 6 樣品制備3 7 分析步驟3 7.1 譜線的選擇3 7.2 優化輝光放電原子發射光譜儀的放電參數3 7.3 工作曲線5 7.4 工作曲線的確認7 7.5 漂移校正8 7.6 樣品分析8 8 分析結果的表示8 8.1 定量深度剖析的表示8 8.2 膜厚和鍍層質量(單位面積)的測定9 9 精密度9 10 試驗報告9 附錄A (資料性附錄) 推薦的元素特征譜線波長10 附錄B (資料性附錄) 常見的氧化物密度11 附錄C (規范性附錄) 共同實驗附加資料12 |
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