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硅拋光片表面質量目測檢驗方法 現行

Standard method for measuring the surface quality of polished silicon slices by visual inspection

標準號：GB/T 6624-2009

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基本信息

標準號：GB/T 6624-2009
發布時間：2009-10-30
實施時間：2010-06-01
首發日期：1986-07-26
出版單位：中國標準出版社查看詳情>
起草人：徐新華、王珍
出版機構：中國標準出版社
標準分類： 半金屬與半導體材料綜合
ICS分類：半導體材料
提出單位：全國半導體設備和材料標準化技術委員會
起草單位：上海合晶硅材料有限公司
歸口單位：全國半導體設備和材料標準化技術委員會材料分技術委員會
發布部門：中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局 中國國家標準化管理委員會
主管部門：國家標準化管理委員會

標準簡介

本標準規定了在一定光照條件下，用目測檢驗單晶拋光片（以下簡稱拋光片）表面質量的方法。本標準適用于硅拋光片表面質量檢驗。外延片表面質量目測檢驗也可參考本方法進行。

標準摘要

本標準代替GB/T6624-1995《硅拋光片表面質量目測檢驗方法》。
本標準與原標準相比主要有如下變化:
---修改了高強度匯聚光源照度要求,由不小于16000lx改為不小于230000lx;
---增加了凈化室級別要求;
---擴大了照度計測量范圍為0lx~330000lx;
---增加了測量長度工具;
---更改檢測條件中光源與硅片之間的距離要求。
本標準由全國半導體設備和材料標準化技術委員會提出。
本標準由全國半導體設備和材料標準化技術委員會材料分技術委員會歸口。
本標準主要起草單位:上海合晶硅材料有限公司。
本標準主要起草人:徐新華、王珍。
本標準所替代標準的歷次版本發布情況為:
---GB/T6624-1986?GB/T6624-1995。

替代情況

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引用標準

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本標準相關公告

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采標情況

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