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物理氣相沉積TiN薄膜技術條件
物理氣相沉積TiN薄膜技術條件 現行
Specifications of physical vapour deposition TiN films
標準號：GB/T 18682-2002
基本信息
標準號：GB/T 18682-2002
發布時間：2002-03-10
實施時間：2002-08-01
首發日期：2002-03-10
出版單位：中國標準出版社查看詳情>
起草人：凌國偉、李健、倪瀚、黃濟群
出版機構：中國標準出版社
標準分類： 材料防護
ICS分類：表面處理
提出單位：中國機械工業聯合會
起草單位：武漢材料保護研究所
歸口單位：全國金屬與非金屬覆蓋層標準化技術委員會
發布部門：中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局
主管部門：中國機械工業聯合會
標準簡介
本標準規定了物理氣相沉積TiN薄膜的技術要求。本標準適用于物理氣相沉積TiN薄膜，也適用于其他方法制備的TiN薄膜。本標準也適用于其他材料沉積層（TiC，TiCN，TiAlN等）。
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