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硅拋光片和外延片表面質(zhì)量光反射測試方法 已作廢

Test method for the surface quality of polished silicon wafers and epitaxial wafers by optical-reflection

標(biāo)準(zhǔn)號：GB/T 17169-1997

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基本信息

標(biāo)準(zhǔn)號：GB/T 17169-1997
發(fā)布時(shí)間：1997-01-02
實(shí)施時(shí)間：1998-08-01
首發(fā)日期：1997-12-22
出版單位：中國標(biāo)準(zhǔn)出版社查看詳情>
起草人：
作廢日期：2005-10-14
出版機(jī)構(gòu)：中國標(biāo)準(zhǔn)出版社
標(biāo)準(zhǔn)分類： 金相檢驗(yàn)方法
ICS分類：半導(dǎo)體材料
起草單位：南開大學(xué),天津市半導(dǎo)體材料廠
歸口單位：全國半導(dǎo)體材料和設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)
發(fā)布部門：國家技術(shù)監(jiān)督局
主管部門：國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

標(biāo)準(zhǔn)簡介

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了半導(dǎo)體硅拋光片和外延片表面常見缺陷的光反射無損檢驗(yàn)方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于半導(dǎo)體硅拋光片和外延片表面質(zhì)量的無損檢驗(yàn)。本標(biāo)準(zhǔn)的檢驗(yàn)結(jié)果與GB/T 6624、GB/T 14142的檢驗(yàn)結(jié)果一致。

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