表面化學分析 硅片工作標準樣品表面元素的化學收集方法和全反射X射線熒光光譜法(TXRF)測定 現行
Surface chemical analysis—Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence(TXRF) spectroscopy
標準號：GB/T 30701-2014
基本信息
標準號：GB/T 30701-2014
發布時間：2014-06-09
實施時間：2014-12-01
首發日期：
出版單位：中國標準出版社查看詳情>
起草人：王海、宋小平、王梅玲、高思田、馮流星。
出版機構：中國標準出版社
標準分類： 基礎標準與通用方法
ICS分類：化學分析
提出單位：全國微束分析標準化技術委員會(SAC/TC38)
起草單位：中國計量科學研究院。
歸口單位：全國微束分析標準化技術委員會(SAC/TC38)
發布部門：中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局 中國國家標準化管理委員會
主管部門：全國微束分析標準化技術委員會(SAC/TC 38)
標準簡介
本標準規定了硅片工作標準樣品表面元素鐵和/或鎳的化學收集方法(氣相分解法或直接酸性液滴分解法)和全反射X射線熒光光譜法(TXRF)測定。注:可采用石墨爐原子吸收光譜法或電感耦合等離子體質譜法代替全反射X 射線熒光光譜法來測定所收集的元素。本標準適用于原子表面密度介于6×109atoms/cm2~5×1011atoms/cm2 范圍的鐵和/或鎳。
標準摘要
|
本標準按照GB/T1.1—2009給出的規則起草。 本標準使用翻譯法等同采用ISO17331:2004《表面化學分析 硅片工作標準樣品表面元素的化學收集方法和全反射X射線熒光光譜法(TXRF)測定》。 本標準納入了ISO17331:2004/Amd.1:2010的修正內容,這些修正內容涉及的條款已通過在其外側頁邊空白位置的垂直雙線(‖)進行了標示。 本標準由全國微束分析標準化技術委員會(SAC/TC38)提出并歸口。 本標準起草單位:中國計量科學研究院。 本標準主要起草人:王海、宋小平、王梅玲、高思田、馮流星。 |
標準目錄
| 前言 Ⅲ 引言 Ⅳ 1 范圍 1 2 規范性引用文件 1 3 術語和定義 1 4 縮略語 2 5 試劑 2 6 儀器設備 5 7 試樣制備及其測量環境 5 8 校準試樣的制備 6 9 繪制校準曲線 7 10 工作標準樣品上鐵和/或鎳的收集 8 11 工作標準樣品上所收集鐵和/或鎳的測定 9 12 精密度 9 13 測試報告 9 附錄A (資料性附錄) 國際實驗室間試驗項目結果 11 附錄B(資料性附錄) 國際實驗室間試驗項目的GF-AAS和ICP-MS測量結果 14 |
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