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γ射線工業(yè)CT放射衛(wèi)生防護標(biāo)準(zhǔn) 現(xiàn)行

Standards for radiation protection of γ-ray industrial computed tomography

標(biāo)準(zhǔn)號:GBZ 175-2006

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基本信息

標(biāo)準(zhǔn)號:GBZ 175-2006
發(fā)布時間:2006-11-03
實施時間:2007-04-01
首發(fā)日期:
出版單位:人民衛(wèi)生出版社查看詳情>
起草人:李萍、周日峰、王玨、先武、唐邦富
出版機構(gòu):人民衛(wèi)生出版社
標(biāo)準(zhǔn)分類: 放射衛(wèi)生防護
ICS分類:職業(yè)安全、工業(yè)衛(wèi)生
提出單位:衛(wèi)生部放射衛(wèi)生防護標(biāo)準(zhǔn)專業(yè)委員會
起草單位:重慶市衛(wèi)生局衛(wèi)生監(jiān)督所、重慶大學(xué)ICT研究中心
發(fā)布部門:中華人民共和國衛(wèi)生部

標(biāo)準(zhǔn)簡介

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了γ射線工業(yè)CT設(shè)備的防護性能,檢測室防護設(shè)施以及γ射線工業(yè)CT設(shè)備在使用和維護過程中的放射衛(wèi)生防護要求。

替代情況

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引用標(biāo)準(zhǔn)

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