表面化學分析 深度剖析 用機械輪廓儀柵網復型法測量濺射速率 現行
Surface chemical analysis—Depth profiling—Measurement of sputtering rate:mesh-replica method using a mechanical stylus profilometer
標準號：GB/T 32999-2016
基本信息
標準號：GB/T 32999-2016
發布時間：2016-10-13
實施時間：2017-09-01
首發日期：
出版單位：中國標準出版社查看詳情>
起草人：吳正龍、姚文清
出版機構：中國標準出版社
標準分類： 基礎標準與通用方法
ICS分類：化學分析
提出單位：全國微束標準化技術委員會(SAC/TC 38)
起草單位：北京師范大學分析測試中心、清華大學分析中心
歸口單位：全國微束標準化技術委員會(SAC/TC 38)
發布部門：中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局 中國國家標準化管理委員會
主管部門：國家標準化管理委員會
標準簡介
本標準規定了利用俄歇電子能譜（AES）和X射線光電子能譜（XPS）測定深度剖析離子濺射速率的方法，試樣的離子濺射面積范圍為0.4 mm?2～3.0 mm?2。本標準只適用于橫向均勻的體相材料或單層材料，其離子濺射速率由濺射深度與濺射時間確定，濺射深度通過機械探針輪廓儀測得。?本標準提供了一種將深度剖析中的離子濺射時間轉換為濺射深度的方法，并假設濺射速率恒定。本方法不是為掃描探針顯微系統設計的，因此不能用掃描探針顯微系統評價該方法。本方法不適用于濺射面積小于0.4 mm?2的情況，也不適用于濺射誘導的表面粗糙度與被測區域的濺射深度相比較明顯的情況。?
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