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電子工業(yè)用氣體 硅烷(SiH4) 已作廢

Gas for electronic industry—Silane

標準號：GB/T 15909-2009

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基本信息

標準號：GB/T 15909-2009
發(fā)布時間：2009-10-30
實施時間：2010-05-01
首發(fā)日期：1995-12-20
出版單位：中國標準出版社查看詳情>
起草人：余京松、周鵬云
作廢日期：2017-12-01
出版機構(gòu)：中國標準出版社
標準分類： 工業(yè)氣體與化學氣體
ICS分類：工業(yè)氣體
提出單位：全國半導體設備和材料標準化技術(shù)委員會
起草單位：浙江大學材化學院半導體材料研究所、西南化工研究設計院
歸口單位：全國半導體設備和材料標準化技術(shù)委員會氣體分會
發(fā)布部門：中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局 中國國家標準化管理委員會
主管部門：全國半導體設備和材料標準化技術(shù)委員會

標準簡介

本標準規(guī)定了硅烷氣體的技術(shù)要求、試驗方法以及包裝、標志、貯運及安全。本標準適用于電子工業(yè)中多晶硅和單晶硅外延淀積、二氧化硅的低溫化學汽相淀積、非晶硅薄膜淀積等。

標準摘要

本標準代替GB/T15909-1995《電子工業(yè)用氣體 硅烷》。
本標準與GB/T15909-1995相比主要變化如下:
---修改規(guī)范性引用文件(GB/T15909-1995的第2章,本版的第2章);
---修改技術(shù)指標內(nèi)容:增加一類產(chǎn)品純度和雜質(zhì)含量,用Cl- 表示氯化物總量(GB/T15909-
1995的3.1,本版的3.1);
---修改電性能規(guī)格(GB/T15909-1995的3.2,本版的3.3);
---增加硅烷的采樣安全要求(見4.1.2);
---增加對硅烷尾氣處理的要求(見4.3);
---修改一氧化碳、二氧化碳、氧和氮含量的測定(GB/T15909-1995的4.2、4.6,本版的4.4);
---修改測定氯化物含量所用試劑和溶液的內(nèi)容(GB/T15909-1995的4.3.4,本版的4.5.4);
---修改測定氯化物含量結(jié)果處理公式(GB/T15909-1995的4.3.6,本版的4.5.6);
---增加其他方法測定氯化物含量(見4.5.7);
---修改烴(C1~C3)含量的測定(GB/T15909-1995的4.4,本版的4.6);
---增加其他方法測定氫含量(見4.7.6);
---增加其他方法測定水含量(見4.8);
---增加微量甲硅醚,乙硅烷和甲基硅烷含量的測定(見4.9);
---增加金屬離子含量的測定(見4.10);
---修改標志、包裝、貯運及安全(GB/T15909-1995的第5章,本版的第5章)。
本標準由全國半導體設備和材料標準化技術(shù)委員會提出。
本標準由全國半導體設備和材料標準化技術(shù)委員會氣體分會歸口。
本標準起草單位:浙江大學材化學院半導體材料研究所、西南化工研究設計院。
本標準主要起草人:余京松、周鵬云。
本標準所代替標準的歷次版本發(fā)布情況為:
---GB/T15909-1995。

替代情況

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引用標準

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