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工業硅化學分析方法 第5部分：雜質元素含量的測定 X射線熒光光譜法 現行

Methods for chemical analysis of silicon metal—Part 5:Determination of impurity contents—X-ray fluorescence method

標準號：GB/T 14849.5-2014

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基本信息

標準號：GB/T 14849.5-2014
發布時間：2014-12-05
實施時間：2015-05-01
首發日期：
出版單位：中國標準出版社查看詳情>
起草人：劉英波、趙德平、楊海岸、周杰、楊毅、張愛玲、胡智弢、張曉平、劉漢士、劉維理、馬啟坤、唐飛、白萬里、王宏磊、常智杰、聶恒聲、金波、王云舟
出版機構：中國標準出版社
標準分類： 輕金屬及其合金分析方法
ICS分類：鋁和鋁合金
起草單位：昆明冶金研究院、中國鋁業股份有限公司山東分公司、云南永昌硅業股份有限公司
歸口單位：全國有色金屬標準化技術委員會(SAC/TC243)
發布部門：中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局 中國國家標準化管理委員會
主管部門：中國有色金屬工業協會

標準簡介

GB/T14849的本部分規定了工業硅中鐵、鋁、鈣、錳、鎳、鈦、銅、磷、鎂、鉻、釩、鈷含量的測定方法。本部分適用于工業硅中鐵、鋁、鈣、錳、鎳、鈦、銅、磷、鎂、鉻、釩、鈷含量的測定,測定范圍見表1。表 1元素 質量分數/% 元素 質量分數/%鐵 0.020~1.500 銅 0.001~0.050鋁 0.050~1.000 磷 0.001~0.050鈣 0.010~1.000 鎂 0.001~0.050錳 0.0050~0.1000 鉻 0.001~0.050鎳 0.0010~0.1000 釩 0.0005~0.0500鈦 0.0050~0.1000 鈷 0.0005~0.0500

標準摘要

GB/T14849《工業硅化學分析方法》分為9個部分:
———第1部分:鐵含量的測定 1,10-二氮雜菲分光光度法;
———第2部分:鋁含量的測定 鉻天青-S分光光度法;
———第3部分:鈣含量的測定 火焰原子吸收光譜法、偶氮氯膦Ⅰ分光光度法;
———第4部分:雜質元素含量的測定 電感耦合等離子體原子發射光譜;
———第5部分:雜質元素含量的測定 X射線熒光光譜法;
———第6部分:碳含量的測定 紅外吸收法;
———第7部分:磷含量的測定 鉬藍分光光度法;
———第8部分:銅含量的測定 PADAP分光光度法;
———第9部分:鈦含量的測定 二安替比林甲烷分光光度法。
本部分為 GB/T14849的第5部分。
本部分按照 GB/T1.1—2009給出的規則起草。
本部分代替 GB/T14849.5—2010《工業硅化學分析方法 第5部分:元素含量的測定 X 射線熒光光譜法》。
本部分與 GB/T14849.5—2010相比,主要有如下變動:
———增加了規范性引用文件;
———增加了錳、鎳、鈦、銅、磷、鎂、鉻、釩、鈷的檢測;
———樣品應破碎通過0.074mm 篩,改為應能通過0.149mm 標準篩;
———將粘結劑硼酸改為淀粉或硼酸;
———將試料中壓片壓力20kN,保壓時間20s,改為30t壓力下保壓30s;
———補充了重復性限及再現性限,增加了試驗報告。
本部分由全國有色金屬標準化技術委員會(SAC/TC243)歸口。
本部分負責起草單位:昆明冶金研究院、中國鋁業股份有限公司山東分公司、云南永昌硅業股份有限公司。
本部分參加起草單位:中國鋁業股份有限公司鄭州研究院、通標標準技術服務有限公司、包頭鋁業有限公司、藍星硅材料有限公司、昆明冶研新材料股份有限公司、云南出入境檢驗檢疫局。
本部分主要起草人:劉英波、趙德平、楊海岸、周杰、楊毅、張愛玲、胡智弢、張曉平、劉漢士、劉維理、馬啟坤、唐飛、白萬里、王宏磊、常智杰、聶恒聲、金波、王云舟。
本部分所代替標準的歷次版本發布情況為:
———GB/T14849.5—2010。

替代情況

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引用標準

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本標準相關公告

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采標情況

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