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電子薄膜用高純鎢及鎢合金濺射靶材 現(xiàn)行

High-purity tungsten and tungsten alloy sputtering target used in electronic film

標準號：YS/T 1025-2015

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基本信息

標準號：YS/T 1025-2015
發(fā)布時間：2015-04-30
實施時間：2015-10-01
首發(fā)日期：
出版單位：中國標準出版社查看詳情>
起草人：姚力軍、王學(xué)澤、丁照崇、張濤、扶元初、袁海軍、鄭文翔、宋佳、蘇國平、錢紅兵、袁潔、王興權(quán)、張玉利、王越、杜鐵路
出版機構(gòu)：中國標準出版社
標準分類： 稀有高熔點金屬及其化合物
ICS分類：其他有色金屬產(chǎn)品
提出單位：全國有色金屬標準化技術(shù)委員會(SAC/TC 243)
起草單位：寧波江豐電子材料股份有限公司、有研億金新材料有限公司、北京天龍鎢鉬科技股份有限公司、株洲凱特實業(yè)有限公司、西安方科新材料科技有限公司
歸口單位：全國有色金屬標準化技術(shù)委員會(SAC/TC 243)
發(fā)布部門：中華人民共和國工業(yè)和信息化部
主管部門：全國有色金屬標準化技術(shù)委員會(SAC/TC 243)

標準簡介

本標準規(guī)定了電子薄膜用高純鎢及鎢合金濺射靶材的要求、試驗方法、檢驗規(guī)則及標志、包裝、運輸存貯、訂貨單（或合同）等內(nèi)容。本標準適用于電子薄膜用高純鎢及鎢合金濺射靶材，簡稱高純鎢及鎢合金靶。

標準摘要

本標準按照GB/T1.1—2009給出的規(guī)則起草。
本標準由全國有色金屬標準化技術(shù)委員會(SAC/TC243)提出并歸口。
本標準起草單位:寧波江豐電子材料股份有限公司、有研億金新材料有限公司、北京天龍鎢鉬科技股份有限公司、株洲凱特實業(yè)有限公司、西安方科新材料科技有限公司。
本標準主要起草人:姚力軍、王學(xué)澤、丁照崇、張濤、扶元初、袁海軍、鄭文翔、宋佳、蘇國平、錢紅兵、袁潔、王興權(quán)、張玉利、王越、杜鐵路。

替代情況

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引用標準

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采標情況

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