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光學制圖 現行

Optical drawings

標準號:GB/T 13323-2009

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基本信息

標準號:GB/T 13323-2009
發布時間:2009-11-15
實施時間:2010-02-01
首發日期:1991-12-14
出版單位:中國標準出版社查看詳情>
起草人:曾麗珠、章慧賢、馮瓊輝、鄔子剛、徐德衍、李晞、付曉平
出版機構:中國標準出版社
標準分類: 光學儀器綜合
ICS分類:光學設備
提出單位:中國機械工業聯合會
起草單位:寧波永新光學股份有限公司、上海理工大學、鳳凰光學集團有限公司、江南永新光學有限公司、上海光學精密機械研究所、蘇州一光儀器有限公司
歸口單位:全國光學和光子學標準化技術委員會(SAC/TC 103)
發布部門:中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局 中國國家標準化管理委員會
主管部門:全國光學和光子學標準化技術委員會(SAC/TC 103)

標準簡介

本標準規定了光學制圖的一般規定、圖樣要求及尺寸、公差標注。本標準適用于光學系統、光學部件和光學零件圖樣的繪制。

標準摘要

本標準對應ISO10110-1:2006《光學和光子學 光學零件和光學系統繪圖準備 第1部分:總則》,與ISO10110-1:2006的一致性程度為非等效。
本標準與ISO10110-1:2006的主要差異如下:
---刪除了國際標準的序言和前言;
---根據ISO10110-1:2006及我國標準用語習慣對標準范圍及符號作了重新編寫;
---參考并補充了ISO101108,ISO1011010,ISO1011012相關部分的內容。
本標準代替GB/T13323-1991《光學制圖》,本標準與GB/T13323-1991相比主要變化如下:
---修改了標準范圍;
---修改了光軸的標注方法;
---將GB/T13323-1991的毛面修改為非拋光面;
---修改了光學零件圖樣的列表格式及內容;
---修改了光學零件缺陷的公差的標注方法;
---修改了材料的雙折射和非均勻性的公差標注方法,并將其技術要求內容放入附錄B;
---增加了表面結構的公差的標注方法,并將其內容放入附錄C;
---修改了附錄A 的示例,并增加了非球面透鏡的圖樣標注方法。
本標準的附錄A 是資料性附錄,附錄B、附錄C 是規范性附錄。
本標準由中國機械工業聯合會提出。
本標準由全國光學和光子學標準化技術委員會(SAC/TC103)歸口。
本標準負責起草單位:寧波永新光學股份有限公司、上海理工大學、鳳凰光學集團有限公司、江南永新光學有限公司、上海光學精密機械研究所、蘇州一光儀器有限公司。
本標準參加起草單位:寧波市教學儀器有限公司、貴陽新天光電科技有限公司、寧波華光精密儀器有限公司、南京東利來光電實業有限公司、浙江舜宇集團股份有限公司、梧州奧卡光學儀器公司、麥克奧迪實業集團有限公司。
本標準主要起草人:曾麗珠、章慧賢、馮瓊輝、鄔子剛、徐德衍、李晞、付曉平。
本標準所代替標準的歷次版本發布情況為:
---GB1331-1977;
---GB/T13323-1991。

標準目錄

前言Ⅰ
1 范圍1
2 規范性引用文件1
3 一般規定1
4 圖樣要求4
附錄A (資料性附錄) 光學圖樣畫法及表示示例14
附錄B (規范性附錄) 材料的應力雙折射及非均勻性23
附錄C (規范性附錄) 表面結構的公差25
參考文獻27

替代情況

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引用標準

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本標準相關公告

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采標情況

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