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平面磁控濺射靶材 光學(xué)薄膜用硅靶 現(xiàn)行

Flat magneting sputtering target—Silicon target for optical coating

標(biāo)準(zhǔn)號：YS/T 719-2009

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基本信息

標(biāo)準(zhǔn)號：YS/T 719-2009
發(fā)布時(shí)間：2009-12-04
實(shí)施時(shí)間：2010-06-01
首發(fā)日期：
出版單位：中國標(biāo)準(zhǔn)出版社查看詳情>
起草人：李智超、楊太禮、付勇、段玉玲、張向東、趙倫
出版機(jī)構(gòu)：中國標(biāo)準(zhǔn)出版社
標(biāo)準(zhǔn)分類： 稀有高熔點(diǎn)金屬及其化合物
ICS分類：其他有色金屬產(chǎn)品
提出單位：全國有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會
起草單位：利達(dá)光電股份有限公司
歸口單位：全國有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會
發(fā)布部門：中華人民共和國工業(yè)和信息化部
主管部門：全國有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會

標(biāo)準(zhǔn)簡介

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了平面磁控濺射光學(xué)薄膜用硅靶材的要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸、貯存及訂貨單（或合同）內(nèi)容。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于平面磁控濺射光學(xué)薄膜用硅靶材。

標(biāo)準(zhǔn)摘要

本標(biāo)準(zhǔn)由全國有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會提出并歸口。
本標(biāo)準(zhǔn)負(fù)責(zé)起草單位:利達(dá)光電股份有限公司。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:李智超、楊太禮、付勇、段玉玲、張向東、趙倫。

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