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砷化鎵表面砷鎵比的測試方法 現(xiàn)行

Test method for Ga/As ratio of surface of gallium arsenide

標(biāo)準(zhǔn)號：SJ 20842-2002

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基本信息

標(biāo)準(zhǔn)號：SJ 20842-2002
發(fā)布時間：2002-10-30
實(shí)施時間：2003-03-01
首發(fā)日期：
出版單位：工業(yè)電子出版社查看詳情>
起草人：
出版機(jī)構(gòu)：工業(yè)電子出版社
標(biāo)準(zhǔn)分類： 電子技術(shù)專用材料
起草單位：中國電子科技集團(tuán)公司第四十六所

標(biāo)準(zhǔn)簡介

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了砷化鎵材料表面鎵砷比的X射線光電子能譜的試驗(yàn)方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于監(jiān)測砷化鎵器件制造過程中各種表面處理對砷化鎵晶片表面鎵砷比的影響，也適用于晶片加工中的各種表面處理。

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