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掩模缺陷檢查系統(tǒng)靈敏度分析所用的特制缺陷掩模和評(píng)估測(cè)量方法準(zhǔn)則 現(xiàn)行

Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysis of mask defect inspection systems

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 17866-1999

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基本信息

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 17866-1999
發(fā)布時(shí)間：1999-09-01
實(shí)施時(shí)間：2000-06-01
首發(fā)日期：1999-09-13
出版單位：中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)出版社查看詳情>
起草人：
出版機(jī)構(gòu)：中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)出版社
標(biāo)準(zhǔn)分類(lèi)： 半導(dǎo)體集成電路
ICS分類(lèi)：集成電路、微電子學(xué)
起草單位：中國(guó)科學(xué)院微電子中心
歸口單位：全國(guó)半導(dǎo)體材料和設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)
發(fā)布部門(mén)：國(guó)家質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督局
主管部門(mén)：國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)介

本標(biāo)準(zhǔn)的目的是制定一套可用于評(píng)估掩模缺陷檢查系統(tǒng)靈敏度的測(cè)試掩模。這套測(cè)試掩模包括：含特制圖形缺陷的測(cè)試芯片，以及不含特制圖形缺陷的參考測(cè)試芯片。由于測(cè)試芯片是由各種單集合而成，所以在本標(biāo)準(zhǔn)中，測(cè)試芯片是用單圖形、單圖形中的特制缺陷、以及單的布局來(lái)定義的。此外，測(cè)試掩模是通過(guò)規(guī)定測(cè)試芯片的排列來(lái)定義的。本標(biāo)準(zhǔn)還講述這套掩模的用法。

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