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硅單晶電阻率測定方法

Test method for measuring resistivity of monocrystal silicon
標準號:GB/T 1551-2009
基本信息
標準號:GB/T 1551-2009
發布時間:2009-10-30
實施時間:2010-06-01
首發日期:1979-05-26
出版單位:中國標準出版社查看詳情>
起草人:李靜、何秀坤、張繼榮、段曙光
出版機構:中國標準出版社
標準分類: 半金屬與半導體材料綜合
ICS分類:半導體材料
提出單位:全國半導體設備和材料標準化技術委員會
起草單位:信息產業部專用材料質量監督檢驗中心、中國電子科技集團公司第四十六研究所
歸口單位:全國半導體設備和材料標準化技術委員會材料分技術委員會
發布部門:中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局 中國國家標準化管理委員會
主管部門:全國半導體設備和材料標準化技術委員會材料分技術委員會
標準簡介
本方法規定了用直排四探針法測量硅單晶電阻率的方法。本方法適用于測量試樣厚度和從試樣邊緣與任一探針端點的最近距離二者均大于探針間距的4倍的硅單晶體電阻率以及測量直徑大于探針間距10倍、厚度小于探針間距4倍的硅單晶圓片的電阻率。
標準摘要
本標準修改采用SEMIMF841105《硅片電阻率測定四探針法》和SEMIMF3971106《硅棒電阻率測定兩探針法》。 本標準與SEMIMF841105和SEMIMF3971106相比,主要變化如下: ---中厚度修正系數F(犠/犛)表格范圍增加; ---按中文格式分直排四探針法、直流兩探針法進行編排。 本標準代替GB/T1551-1995《硅、鍺單晶電阻率測定直流兩探針法》和GB/T1552-1995《硅、鍺單晶電阻率測定直排四探針法》。 本標準與GB/T1551-1995和GB/T1552-1995相比,主要有如下變化: ---刪除了鍺單晶測定的相關內容; ---用文字描述代替了原標準GB/T1551-1995和GB/T1552-1995中的若干記錄測試數據的表格; ---修改了直排四探針法中計算公式; ---補充了干擾因素。 本標準由全國半導體設備和材料標準化技術委員會提出。 本標準由全國半導體設備和材料標準化技術委員會材料分技術委員會歸口。 本標準起草單位:信息產業部專用材料質量監督檢驗中心、中國電子科技集團公司第四十六研究所。 本標準主要起草人:李靜、何秀坤、張繼榮、段曙光。 本標準所代替標準的歷次版本發布情況為: ---GB1552-1979、GB1551-1979、GB5251-1985、GB5253-1985、GB6615-1986; ---GB/T1551-1995、GB/T1552-1995。 |
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