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掩模曝光系統精密度和準確度的表示準則
掩模曝光系統精密度和準確度的表示準則 現行
Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment
標準號：GB/T 16879-1997
基本信息
標準號：GB/T 16879-1997
發布時間：1997-06-20
實施時間：1998-03-01
首發日期：1997-06-20
出版單位：中國標準出版社查看詳情>
起草人：
出版機構：中國標準出版社
標準分類： 加工專用設備
ICS分類：電子元件綜合
起草單位：中國科學院微電子中心
歸口單位：全國半導體材料和設備標準化技術委員會
發布部門：國家技術監督局
主管部門：國家標準化管理委員會
標準簡介
本準則規定了在表示掩模曝光設備的精密度和準確度時應遵循的一般要求。掩模曝光設備的圖形曝光精密度和準確度是通過測量制成的掩模來評估的，掩膜制造過程中的工藝條件對它有很大影響。所以，曝光條件應經廠家和用戶雙方同意。
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