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黃金制品鍍層成分的 X 射線能譜測(cè)量方法 已作廢

Surface composition analysis method of gold-plated products by EDX

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 17723-1999

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基本信息

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 17723-1999
發(fā)布時(shí)間：1999-04-01
實(shí)施時(shí)間：1999-01-02
首發(fā)日期：1999-04-11
出版單位：中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)出版社查看詳情>
起草人：
作廢日期：2009-05-01
出版機(jī)構(gòu)：中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)出版社
標(biāo)準(zhǔn)分類： 電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器
ICS分類：光學(xué)設(shè)備
起草單位：北京有色金屬研究總院
歸口單位：全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)
發(fā)布部門：國(guó)家質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督局
主管部門：國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)介

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了應(yīng)用掃描電鏡X射線能譜儀（包括裝有X射線能譜儀的電子探針儀）對(duì)鍍金制品表面金及金合金單層均勻鍍層成分的非破壞性分析測(cè)量方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于表面鍍金及金合金，其鍍層厚度為0.2μm以上，3μm以下范圍內(nèi)的成分測(cè)量(不包括基體和金鍍層材料相近的鍍層成分的測(cè)量)。

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