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電子薄膜用高純鋁及鋁合金濺射靶材 現(xiàn)行

High-purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film

標(biāo)準(zhǔn)號：GB/T 29658-2013

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基本信息

標(biāo)準(zhǔn)號：GB/T 29658-2013
發(fā)布時間：2013-09-06
實施時間：2014-05-01
首發(fā)日期：
出版單位：中國標(biāo)準(zhǔn)出版社查看詳情>
起草人：萬小勇、羅俊鋒、廖贊、尚再艷、楊華、朱曉光、孫秀霖等
出版機(jī)構(gòu)：中國標(biāo)準(zhǔn)出版社
標(biāo)準(zhǔn)分類： 輕金屬及其合金
ICS分類：鋁和鋁合金
起草單位：有研億金新材料股份有限公司。
歸口單位：全國有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員(SAC/TC 243)
發(fā)布部門：中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局 中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
主管部門：全國有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員(SAC/TC 243)

標(biāo)準(zhǔn)簡介

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子薄膜制備用高純鋁及鋁合金靶材的要求、試驗方法、檢驗規(guī)則及標(biāo)志、包裝、運輸、存貯、訂貨單(或合同)等內(nèi)容。本標(biāo)準(zhǔn)適用于電子薄膜用各類高純鋁及鋁合金濺射靶材(以下簡稱鋁靶)。

標(biāo)準(zhǔn)摘要

本標(biāo)準(zhǔn)按照GB/T1.1—2009給出的規(guī)則起草。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員(SAC/TC243)歸口。
本標(biāo)準(zhǔn)負(fù)責(zé)起草單位:有研億金新材料股份有限公司。
本標(biāo)準(zhǔn)參加起草單位:寧波江豐電子材料有限公司、新疆眾和股份有限公司。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:萬小勇、羅俊鋒、廖贊、尚再艷、楊華、朱曉光、孫秀霖、何金江、熊曉東、王興權(quán)、王學(xué)澤、錢紅兵、喻潔、劉杰、洪濤、努力古、宋玉萍。

替代情況

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