當(dāng)前位置:
首頁 >
用區(qū)熔拉晶法和光譜分析法評(píng)價(jià)多晶硅棒的規(guī)程

Practice for evaluation of polocrystalline silicon rods by float-zone crystal growth and spectroscopy
標(biāo)準(zhǔn)號(hào):GB/T 29057-2012
基本信息
標(biāo)準(zhǔn)號(hào):GB/T 29057-2012
發(fā)布時(shí)間:2012-12-31
實(shí)施時(shí)間:2013-10-01
首發(fā)日期:
出版單位:中國標(biāo)準(zhǔn)出版社查看詳情>
起草人:梁洪、劉暢、陳自強(qiáng)、張新、藍(lán)志、張華端、瞿芬芬
出版機(jī)構(gòu):中國標(biāo)準(zhǔn)出版社
標(biāo)準(zhǔn)分類: 半金屬與半導(dǎo)體材料綜合
ICS分類:半導(dǎo)體材料
提出單位:全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC 203)
起草單位:四川新光硅業(yè)科技有限責(zé)任公司、樂山樂電天威硅業(yè)科技有限責(zé)任公司、天威四川硅業(yè)有限責(zé)任公司
歸口單位:全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC 203)
發(fā)布部門:中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局 中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
主管部門:全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC 203)
標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)介
本標(biāo)準(zhǔn)采用區(qū)熔拉晶法和光譜分析法來測(cè)量多晶硅棒中的施主、受主雜質(zhì)濃度。測(cè)得的施主、受主雜質(zhì)濃度可以用來計(jì)算按一定的目標(biāo)電阻率生長單晶硅棒所需要的摻雜量,也可以用來推算非摻雜硅棒的電阻率。
標(biāo)準(zhǔn)摘要
本標(biāo)準(zhǔn)按照GB/T1.1—2009給出的規(guī)則起草。 本標(biāo)準(zhǔn)修改采用國際標(biāo)準(zhǔn)SEMIMF1723-1104《用區(qū)熔拉晶法和光譜分析法評(píng)價(jià)多晶硅棒的規(guī)程》。為方便比較,資料性附錄A 中列出了本標(biāo)準(zhǔn)章條和對(duì)應(yīng)的國際標(biāo)準(zhǔn)章條的對(duì)照一覽表。 本標(biāo)準(zhǔn)在采用SEMIMF1723-1104時(shí)進(jìn)行了修改。這些技術(shù)差異用垂直單線標(biāo)識(shí)在它們所涉及的條款的頁邊空白處。主要技術(shù)差異如下: ———在“規(guī)范性引用文件”中,凡我國已有國家標(biāo)準(zhǔn)的,均用相應(yīng)的國家標(biāo)準(zhǔn)代替SEMIMF1723-1104中的“引用文件”。 ———增加規(guī)范性引用文件GB/T1553《硅和鍺體內(nèi)少數(shù)載流子壽命測(cè)定 光電導(dǎo)衰減法》。 ———將6.2中“…ISO14644-1中規(guī)定的ISO5級(jí)…”改為“…GB50073中規(guī)定的5級(jí)…”。 ———將7.2.1中“…ISO14644-1中規(guī)定的ISO6級(jí)…”改為“…GB50073中規(guī)定的6級(jí)…”。 ———將7.3.1中“…ISO14644-1中規(guī)定的ISO6級(jí)…”改為“…GB50073中規(guī)定的6級(jí)…”。 ———將7.3.1中“…1×10-6torr…”改為“…1.3×10-4Pa…”。 ———將8.1中“硝酸(HNO3)———符合SEMIC352級(jí)”改為“硝酸(HNO3)———符合GB/T626優(yōu)級(jí)純”。 ———將8.2中“氫氟酸(HF)———符合SEMIC282級(jí)”改為“氫氟酸(HF)———符合GB/T620優(yōu)級(jí)純”。 ———將8.4中“去離子水———純度等于或優(yōu)于ASTM D5127中的E-2級(jí)”改為“去離子水———純度等于或優(yōu)于GB/T11446.1中的EW-2級(jí)”。 ———將8.5中“高純氬氣———符合SEMIC3.42”改為“高純氬氣———符合GB/T4842優(yōu)等品”。 ———增加12.5.2.4“按照GB/T1553檢測(cè)晶棒體內(nèi)少數(shù)載流子壽命。” ———將12.6.1中“…根據(jù)SEMIMF1391分析碳含量…”改為“…根據(jù)GB/T1558分析碳含量…”。 ———將12.6.3.3中“…按測(cè)試方法SEMIMF1391…”改為“…按測(cè)試方法GB/T1558…”。 ———將13.3.5.1中“…見SEMIMF723…”改為“…見GB/T13389…”。 ———將14.1中“…在SEMIMF1391中…”改為“…在GB/T1558中…”。 本標(biāo)準(zhǔn)由全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC203)提出并歸口。 本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:四川新光硅業(yè)科技有限責(zé)任公司、樂山樂電天威硅業(yè)科技有限責(zé)任公司、天威四川硅業(yè)有限責(zé)任公司。 本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:梁洪、劉暢、陳自強(qiáng)、張新、藍(lán)志、張華端、瞿芬芬。 |
推薦檢測(cè)機(jī)構(gòu)
申請(qǐng)入駐
暫未檢測(cè)到相關(guān)機(jī)構(gòu),邀您申請(qǐng)入駐~
推薦認(rèn)證機(jī)構(gòu)
申請(qǐng)入駐
暫未檢測(cè)到相關(guān)機(jī)構(gòu),邀您申請(qǐng)入駐~
推薦培訓(xùn)機(jī)構(gòu)
申請(qǐng)入駐
暫未檢測(cè)到相關(guān)機(jī)構(gòu),邀您申請(qǐng)入駐~