表面化學分析 二次離子質譜 用均勻摻雜物質測定硅中硼的原子濃度 現行
Surface chemical analysis-Secondary-ion mass spectrometry-Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
標準號：GB/T 20176-2006
基本信息
標準號：GB/T 20176-2006
發布時間：2006-03-27
實施時間：2006-11-01
首發日期：2006-03-27
出版單位：中國標準出版社查看詳情>
起草人：查良鎮、陳旭、王光普、黃雁華、黃天斌、劉林、葛欣、桂東
出版機構：中國標準出版社
標準分類： 電子光學與其他物理光學儀器
ICS分類：化學分析
提出單位：全國微束分析標準化技術委員會
起草單位：清華大學電子工程系
歸口單位：全國微束分析標準化技術委員會
發布部門：國家標準化管理委員會
主管部門：國家標準化管理委員會
標準簡介
本標準詳細說明了用標定的均勻摻雜物質確定單晶硅中硼的原子濃度的二次離子質譜方法。
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