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微束分析 電子背散射衍射取向分析方法導(dǎo)則 現(xiàn)行

Microbeam analysis—Guidelines for orientation measurement using electron backscatter diffraction

標(biāo)準(zhǔn)號：GB/T 30703-2014

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基本信息

標(biāo)準(zhǔn)號：GB/T 30703-2014
發(fā)布時間：2014-06-09
實施時間：2014-12-01
首發(fā)日期：
出版單位：中國標(biāo)準(zhǔn)出版社查看詳情>
起草人：張作貴、田青超、陳家光、曾毅。
出版機(jī)構(gòu)：中國標(biāo)準(zhǔn)出版社
標(biāo)準(zhǔn)分類： 基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法
ICS分類：物理化學(xué)分析方法
提出單位：全國微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(SAC/TC38)
起草單位：上海發(fā)電設(shè)備成套設(shè)計研究院、寶鋼集團(tuán)中央研究院、中國科學(xué)院上海硅酸鹽研究所。
歸口單位：全國微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(SAC/TC 38)
發(fā)布部門：中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局 中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
主管部門：全國微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(SAC/TC38)

標(biāo)準(zhǔn)簡介

本標(biāo)準(zhǔn)給出了使用電子背散射衍射(EBSD)技術(shù)進(jìn)行晶體取向測量的指南,使測量數(shù)據(jù)具有較高的可靠性和重復(fù)性,本標(biāo)準(zhǔn)確立了試樣制備、儀器配置、校正以及數(shù)據(jù)采集的一般原則。本標(biāo)準(zhǔn)適用于EBSD對塊狀晶體樣品的晶粒取向分析。

標(biāo)準(zhǔn)摘要

本標(biāo)準(zhǔn)按照GB/T1.1—2009給出的規(guī)則起草。
本標(biāo)準(zhǔn)使用翻譯法等同采用國際標(biāo)準(zhǔn):ISO24173:2009《微束分析 電子背散射衍射取向測定方法導(dǎo)則》。
與本標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)范性引用的國際文件有一致性對應(yīng)關(guān)系的我國文件如下:
———GB/T27025—2008 檢測和校準(zhǔn)實驗室能力的通用要求(ISO/IEC17025:2005,IDT)。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(SAC/TC38)提出并歸口。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:上海發(fā)電設(shè)備成套設(shè)計研究院、寶鋼集團(tuán)中央研究院、中國科學(xué)院上海硅酸鹽研究所。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:張作貴、田青超、陳家光、曾毅。

標(biāo)準(zhǔn)目錄

前言 Ⅰ
引言 Ⅱ
1 范圍 1
2 規(guī)范性引用文件 1
3 術(shù)語和定義 1
4 EBSD設(shè)備 6
5 操作條件 7
6 EBSP指數(shù)標(biāo)定所需的校正 11
7 分析過程 14
8 測量不確定度 14
9 分析結(jié)果的發(fā)布 15
附錄A (資料性附錄) EBSD的工作原理 16
附錄B(規(guī)范性附錄) EBSD的試樣制備 17
附錄C(資料性附錄) 晶體學(xué)、EBSP標(biāo)定及其他與EBSD相關(guān)的有用資料 22
參考文獻(xiàn)

替代情況

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