
Test methods of precious metals pastes used for microelectronics - Determination of solderability and solderelaching resistance
標(biāo)準(zhǔn)號:GB/T 17473.7-2008
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了微電子技術(shù)用貴金屬可焊漿料的可焊性、耐焊性測定方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于微電子技術(shù)用貴金屬可焊漿料的可焊性、耐焊性測定。 本部分代替GB/T17473.7—1998《厚膜微電子技術(shù)用貴金屬漿料測試方法 可焊性、耐焊性試驗》。本部分與GB/T17473.7—1998相比,主要有如下變動:———范圍去除“非貴金屬漿料可焊漿料亦可參照使用”內(nèi)容;———將原標(biāo)準(zhǔn)名稱修改為微電子技術(shù)用貴金屬漿料測試方法可焊性、耐焊性測定;———將原標(biāo)準(zhǔn)厚膜隧道燒結(jié)爐,溫度范圍為室溫~1000℃。改為:厚膜隧道燒結(jié)爐,最高使用溫度為1000℃,控制精度在±5℃;———將原標(biāo)準(zhǔn)控制焊料熔融溫度為235℃±5℃改為:根據(jù)不同的焊料確定溫度;———將原標(biāo)準(zhǔn)“浸入和取出速度為(25±5)mm/s”刪除;———將原標(biāo)準(zhǔn)“導(dǎo)體浸入焊料界面深度為2mm”改為“導(dǎo)體浸入焊料界面深度為2mm 以下”;———將原標(biāo)準(zhǔn)“浸入時間為5s±1s。浸入時間為10s±1s”改為“浸入時間根據(jù)不同漿料”確定;———將原標(biāo)準(zhǔn)8.1.1中“在放大鏡下觀察,若基片印刷圖案導(dǎo)電膜接受焊錫的面積不小于95%,則為可焊性好,小于95%為可焊性差”修改為“在放大鏡下觀察,若基片印刷圖案導(dǎo)電膜接受焊錫的面積不小于圖案面積的9/10,則為可焊性好,小于9/10為可焊性差”;———將原標(biāo)準(zhǔn)8.1.2中“基片印刷圖案若有5%未焊的面積集中在某一角,則可焊性差”修改為“基片印刷圖案若有1/5未焊面積,則可焊性差”。
本標(biāo)準(zhǔn)是對gb/t17473-1998 《厚膜微電子技術(shù)用貴金屬漿料測試方法》(所有部分)的整合修訂,分為7個部分: ---gb/t17473.1-2008 微電子技術(shù)用貴金屬漿料測試方法 固體含量測定; ---gb/t17473.2-2008 微電子技術(shù)用貴金屬漿料測試方法 細度測定; ---gb/t17473.3-2008 微電子技術(shù)用貴金屬漿料測試方法 方阻測定; ---gb/t17473.4-2008 微電子技術(shù)用貴金屬漿料測試方法 附著力測試; ---gb/t17473.5-2008 微電子技術(shù)用貴金屬漿料測試方法 粘度測定; ---gb/t17473.6-2008 微電子技術(shù)用貴金屬漿料測試方法 分辨率測定; ---gb/t17473.7-2008 微電子技術(shù)用貴金屬漿料測試方法 可焊性?耐焊性測定? 本部分為gb/t17473-2008的第7部分? 本部分代替gb/t17473.7-1998《厚膜微電子技術(shù)用貴金屬漿料測試方法 可焊性?耐焊性試驗》? 本部分與gb/t17473.7-1998相比,主要有如下變動: ---范圍去除非貴金屬漿料可焊漿料亦可參照使用內(nèi)容; ---將原標(biāo)準(zhǔn)名稱修改為微電子技術(shù)用貴金屬漿料測試方法可焊性?耐焊性測定; ---將原標(biāo)準(zhǔn)厚膜隧道燒結(jié)爐,溫度范圍為室溫~1000℃?改為:厚膜隧道燒結(jié)爐,最高使用溫度為1000℃,控制精度在±5℃; ---將原標(biāo)準(zhǔn)控制焊料熔融溫度為235℃±5℃改為:根據(jù)不同的焊料確定溫度; ---將原標(biāo)準(zhǔn)浸入和取出速度為(25±5)mm/s刪除; ---將原標(biāo)準(zhǔn)導(dǎo)體浸入焊料界面深度為2mm改為導(dǎo)體浸入焊料界面深度為2mm 以下; ---將原標(biāo)準(zhǔn)浸入時間為5s±1s?浸入時間為10s±1s改為浸入時間根據(jù)不同漿料確定; ---將原標(biāo)準(zhǔn)8.1.1中在放大鏡下觀察,若基片印刷圖案導(dǎo)電膜接受焊錫的面積不小于95%,則為可焊性好,小于95%為可焊性差。 本部分由中國有色金屬工業(yè)協(xié)會提出。 本部分由全國有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會歸口。 本部分由貴研鉑業(yè)股份有限公司負責(zé)起草。 本部分主要起草人:李文琳、陳伏生、馬曉峰、朱武勛、李晉。 本部分所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為: ---gb/t17473.7-1998。 |
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