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氮化鎵單晶襯底片x射線雙晶搖擺曲線半高寬測試方法

Test method for full width at half maximum of double crystal X-ray rocking curve of GaN single crystal substrate
標(biāo)準(zhǔn)號:GB/T 32188-2015
基本信息
標(biāo)準(zhǔn)號:GB/T 32188-2015
發(fā)布時間:2015-12-10
實施時間:2016-11-01
首發(fā)日期:
出版單位:中國標(biāo)準(zhǔn)出版社查看詳情>
起草人:邱 永 鑫、任 國 強(qiáng)、劉 爭 暉、曾 雄 輝、王 建 峰、陳 小 龍、王 文 軍、鄭 紅 軍、徐 科、趙松彬
出版機(jī)構(gòu):中國標(biāo)準(zhǔn)出版社
標(biāo)準(zhǔn)分類: 金屬物理性能試驗方法
ICS分類:金屬材料試驗
提出單位:全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(SAC/TC203)與全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會材料分(SAC/TC203/SC2)
起草單位:中國科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所、蘇州納維科技有限公司、中國科學(xué)院物理研究所、北京天科合達(dá)藍(lán)光半導(dǎo)體有限公司、丹東新東方晶體儀器有限公司
歸口單位:全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(SAC/TC203)與全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會材料分(SAC/TC203/SC2)
發(fā)布部門:中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局 中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
主管部門:國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
標(biāo)準(zhǔn)簡介
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了利用雙晶 X射線衍射儀測試氮化鎵單晶襯底片搖擺曲線半高寬的方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于化學(xué)氣相沉積及其他方法生長制備的氮化鎵單晶襯底片。
標(biāo)準(zhǔn)摘要
本標(biāo)準(zhǔn)按照 GB/T1.1—2009給出的規(guī)則起草。 本標(biāo)準(zhǔn)由全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(SAC/TC203)與全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會材料分(SAC/TC203/SC2)共同提出并歸口。 本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:中國科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所、蘇州納維科技有限公司、中國科學(xué)院物理研究所、北京天科合達(dá)藍(lán)光半導(dǎo)體有限公司、丹東新東方晶體儀器有限公司。 本標(biāo)準(zhǔn)主要起 草 人:邱 永 鑫、任 國 強(qiáng)、劉 爭 暉、曾 雄 輝、王 建 峰、陳 小 龍、王 文 軍、鄭 紅 軍、徐 科、趙松彬。 |
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