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硅拋光片氧化誘生缺陷的檢驗方法
硅拋光片氧化誘生缺陷的檢驗方法 已作廢
Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers
標準號：GB/T 4058-1995
基本信息
標準號：GB/T 4058-1995
發布時間：1995-04-18
實施時間：1995-01-02
首發日期：1983-12-20
出版單位：中國標準出版社查看詳情>
起草人：
作廢日期：2010-06-01
出版機構：中國標準出版社
標準分類： 金屬無損檢驗方法
ICS分類：金屬材料化學分析
起草單位：峨嵋半導體材料廠
歸口單位：全國半導體材料和設備標準化技術委員會
發布部門：國家技術監督局
主管部門：國家標準化管理委員會
標準簡介
本標準規定了硅拋光片氧化誘生缺陷的檢驗方法。本標準適用于硅拋光片表面區在模擬器件氧化工藝中誘生或增強的晶體缺陷的檢測。
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