硅基MEMS制造技術 以深刻蝕與鍵合為核心的工藝集成規范 現行
Silicon-based MEMS fabrication technology—Specification for criterion of the combinationof the deep etching and bonding process
標準號：GB/T 32816-2016
基本信息
標準號：GB/T 32816-2016
發布時間：2016-08-29
實施時間：2017-03-01
首發日期：
出版單位：中國標準出版社查看詳情>
起草人：張大成、楊芳、李海斌、王瑋、何軍、黃賢、劉沖、劉偉、鄒赫麟、田大宇、姜博巖
出版機構：中國標準出版社
標準分類： 微電路綜合
ICS分類：集成電路、微電子學
提出單位：全國微機電技術標準化技術委員會(SAC/TC 336)
起草單位：北京大學、中機生產力促進中心、大連理工大學、北京青鳥元芯微系統科技有限公司
歸口單位：全國微機電技術標準化技術委員會(SAC/TC 336)
發布部門：中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局 中國國家標準化管理委員會
主管部門：國家標準化管理委員會
標準簡介
本標準規定了采用以深刻蝕與鍵合為核心的工藝集成進行MEMS器件加工時應遵循的工藝要求和質量檢驗要求。本標準適用于基于以深刻蝕與鍵合為核心的工藝集成的加工和質量檢驗。
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