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離子注入機(jī)通用規(guī)范 現(xiàn)行

General specification of ion implantation equipment

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 15862-2012

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基本信息

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 15862-2012
發(fā)布時(shí)間：2012-11-05
實(shí)施時(shí)間：2013-02-15
首發(fā)日期：1995-12-22
出版單位：中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)出版社查看詳情>
起草人：郭健輝、彭立波、羅宏洋
出版機(jī)構(gòu)：中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)出版社
標(biāo)準(zhǔn)分類： 加工專用設(shè)備
ICS分類：  31-550
提出單位：中華人民共和國(guó)工業(yè)和信息化部
起草單位：中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十八研究所
歸口單位：中國(guó)電子技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化研究所
發(fā)布部門：中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局 中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
主管部門：中國(guó)電子技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化研究所

標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)介

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了離子注入機(jī)的術(shù)語(yǔ)、產(chǎn)品分類、技術(shù)要求、試驗(yàn)、檢驗(yàn)規(guī)則和標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸、貯存。本標(biāo)準(zhǔn)適用于半導(dǎo)體工藝用電能離子注入機(jī)。其他離子注入機(jī)亦可參照使用。

標(biāo)準(zhǔn)摘要

本標(biāo)準(zhǔn)按照GB/T1.1—2009給出的規(guī)則起草。
本標(biāo)準(zhǔn)代替GB/T15862—1995《離子注入機(jī)通用技術(shù)條件》。
本標(biāo)準(zhǔn)與GB/T15862—1995相比主要變化如下:
———GBn193—1983由GB/T13384—1992代替;
———增加術(shù)語(yǔ)“注入角度”(見(jiàn)3.6)、“最大晶片傳輸效率”(見(jiàn)3.7),并在性能指標(biāo)及測(cè)試方法中做相應(yīng)要求(見(jiàn)6.4.6);
———環(huán)境溫度調(diào)整為23℃±2℃;相對(duì)濕度規(guī)定范圍30%~50%(見(jiàn)5.1.3);
———安全要求中增加“警示標(biāo)識(shí)”的條款(見(jiàn)6.3.1);
———去掉表3、表4;
———均勻性測(cè)量增加了熱波探針?lè)y(cè)量條件和方法(見(jiàn)6.4.4.1b));
———重復(fù)性測(cè)量增加了批間重復(fù)性測(cè)量方法(見(jiàn)6.4.5.2);
———檢驗(yàn)規(guī)則去掉例行檢驗(yàn)項(xiàng)。
本標(biāo)準(zhǔn)由中華人民共和國(guó)工業(yè)和信息化部提出。
本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)電子技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化研究所歸口。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十八研究所。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:郭健輝、彭立波、羅宏洋。
本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為:
———GB/T15862—1995。

替代情況

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