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光掩模缺陷分類(lèi)和尺寸定義的準(zhǔn)則 現(xiàn)行

Guidelines for photomask defect classification and size definition

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 16880-1997

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基本信息

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 16880-1997
發(fā)布時(shí)間：1997-06-20
實(shí)施時(shí)間：1998-03-01
首發(fā)日期：1997-06-20
出版單位：中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)出版社查看詳情>
起草人：
出版機(jī)構(gòu)：中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)出版社
標(biāo)準(zhǔn)分類(lèi)： 加工專(zhuān)用設(shè)備
ICS分類(lèi)：電子元件綜合
起草單位：中國(guó)科學(xué)院微電子中心
歸口單位：全國(guó)半導(dǎo)體材料和設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)
發(fā)布部門(mén)：國(guó)家技術(shù)監(jiān)督局
主管部門(mén)：國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)介

本準(zhǔn)則的范圍是制定有關(guān)光掩模缺陷分類(lèi)用的標(biāo)準(zhǔn)術(shù)語(yǔ)，并規(guī)定缺陷大小的表達(dá)方法。確定光掩模缺陷時(shí)應(yīng)遵循這個(gè)準(zhǔn)則。

替代情況

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引用標(biāo)準(zhǔn)

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