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硅拋光片和外延片表面質量光反射測試方法
硅拋光片和外延片表面質量光反射測試方法 已作廢
Test method for the surface quality of polished silicon wafers and epitaxial wafers by optical-reflection
標準號：GB/T 17169-1997
基本信息
標準號：GB/T 17169-1997
發布時間：1997-01-02
實施時間：1998-08-01
首發日期：1997-12-22
出版單位：中國標準出版社查看詳情>
起草人：
作廢日期：2005-10-14
出版機構：中國標準出版社
標準分類： 金相檢驗方法
ICS分類：半導體材料
起草單位：南開大學,天津市半導體材料廠
歸口單位：全國半導體材料和設備標準化技術委員會
發布部門：國家技術監督局
主管部門：國家標準化管理委員會
標準簡介
本標準規定了半導體硅拋光片和外延片表面常見缺陷的光反射無損檢驗方法。本標準適用于半導體硅拋光片和外延片表面質量的無損檢驗。本標準的檢驗結果與GB/T 6624、GB/T 14142的檢驗結果一致。
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