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平面磁控濺射靶材 光學薄膜用鈮靶
平面磁控濺射靶材 光學薄膜用鈮靶 現行
Flat magneting sputtering target—Niobium target for optical coating
標準號：YS/T 718-2009
基本信息
標準號：YS/T 718-2009
發布時間：2009-12-04
實施時間：2010-06-01
首發日期：
出版單位：中國標準出版社查看詳情>
起草人：汪錦瑞、宋謀通、郭大鵬、李娟、林秀英、吳亞輝
出版機構：中國標準出版社
標準分類： 稀有高熔點金屬及其化合物
ICS分類：其他有色金屬產品
提出單位：全國有色金屬標準化技術委員會
起草單位：金川集團有限公司
歸口單位：全國有色金屬標準化技術委員會
發布部門：中華人民共和國工業和信息化部
主管部門：全國有色金屬標準化技術委員會
標準簡介
本標準規定了平面磁控濺射光學薄膜用鈮靶材的要求、試驗方法、檢驗規則、標志、包裝、運輸、貯存及訂貨單（或合同）內容。本標準適用于平面磁控濺射光學薄膜用鈮靶材。
標準摘要
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本標準由全國有色金屬標準化技術委員會提出并歸口. 本標準起草單位:金川集團有限公司. 本標準主要起草人:汪錦瑞、宋謀通、郭大鵬、李娟、林秀英、吳亞輝. |
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