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牙釉質(zhì)電子順磁共振劑量重建方法 現(xiàn)行

The method of EPR dose reconstruction with tooth enamel

標(biāo)準(zhǔn)號:GBZ/T 172-2006

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基本信息

標(biāo)準(zhǔn)號:GBZ/T 172-2006
發(fā)布時間:2006-03-13
實施時間:2006-10-01
首發(fā)日期:
出版單位:人民衛(wèi)生出版社查看詳情>
起草人:蘇旭、楊英杰、阮健磊、高剛
出版機(jī)構(gòu):人民衛(wèi)生出版社
標(biāo)準(zhǔn)分類: 職業(yè)病診斷標(biāo)準(zhǔn)
ICS分類:職業(yè)安全、工業(yè)衛(wèi)生
提出單位:全國放射性疾病診斷標(biāo)準(zhǔn)委員會
起草單位:中國疾病預(yù)防控制中心輻射防護(hù)與核安全醫(yī)學(xué)所
歸口單位:中華人民共和國衛(wèi)生部
發(fā)布部門:中華人民共和國衛(wèi)生部
主管部門:中華人民共和國衛(wèi)生部

標(biāo)準(zhǔn)簡介

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用牙釉質(zhì)EPR劑量重建時所涉及的儀器設(shè)備、牙釉質(zhì)制備、EPR波譜測量、劑量估算以及不確定度表述。本標(biāo)準(zhǔn)不適用于急、慢性外照射所致過量受照人員的牙齒吸收劑量重建。適用的吸收劑量范圍:0.5~300Gy;輻射及其能量范圍:>200keV的光子輻射。本標(biāo)準(zhǔn)不適用于內(nèi)照射的劑量估算。

替代情況

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引用標(biāo)準(zhǔn)

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采標(biāo)情況

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