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電子薄膜用高純鈷靶材

High-purity cobalt sputtering target used in electronic film
標(biāo)準(zhǔn)號:YS/T 1053-2015
基本信息
標(biāo)準(zhǔn)號:YS/T 1053-2015
發(fā)布時(shí)間:2015-04-30
實(shí)施時(shí)間:2015-10-01
首發(fā)日期:
出版單位:中國標(biāo)準(zhǔn)出版社查看詳情>
起草人:王學(xué)澤、李勇軍、鄭文翔、羅俊鋒、袁海軍、熊曉東、陳勇軍、劉丹、陸彤、袁潔、張濤
出版機(jī)構(gòu):中國標(biāo)準(zhǔn)出版社
標(biāo)準(zhǔn)分類: 重金屬及其合金
ICS分類:鎘和鈷產(chǎn)品
提出單位:全國有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(SAC/TC 243)
起草單位:寧波江豐電子材料股份有限公司、有研億金新材料有限公司
歸口單位:全國有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(SAC/TC 243)
發(fā)布部門:中華人民共和國工業(yè)和信息化部
主管部門:全國有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(SAC/TC 243)
標(biāo)準(zhǔn)簡介
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子薄膜用高純鈷靶材的要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則和標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸、貯存、質(zhì)量證明書及訂貨單(或合同)內(nèi)容。本標(biāo)準(zhǔn)適用于電子薄膜制造用的各類高純鈷靶。
標(biāo)準(zhǔn)摘要
本標(biāo)準(zhǔn)按照GB/T1.1—2009給出的規(guī)則起草。 本標(biāo)準(zhǔn)由全國有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(SAC/TC243)提出并歸口。 本標(biāo)準(zhǔn)負(fù)責(zé)起草單位:寧波江豐電子材料股份有限公司、有研億金新材料有限公司。 本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:王學(xué)澤、李勇軍、鄭文翔、羅俊鋒、袁海軍、熊曉東、陳勇軍、劉丹、陸彤、袁潔、張濤。 |
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