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低能γ射線粒子源植入治療的放射防護(hù)與質(zhì)量控制檢測規(guī)范 已作廢

Specification for radiological protection and quality control in implanted treatment of low energy γ-ray seed sources

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GBZ 178-2006

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基本信息

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GBZ 178-2006
發(fā)布時(shí)間：2006-11-03
實(shí)施時(shí)間：2007-04-01
首發(fā)日期：
起草人：羅素明、朱衛(wèi)國、何志堅(jiān)
作廢日期：2014-10-01
標(biāo)準(zhǔn)分類： 放射衛(wèi)生防護(hù)
ICS分類：職業(yè)安全、工業(yè)衛(wèi)生
提出單位：衛(wèi)生部放射衛(wèi)生防護(hù)標(biāo)準(zhǔn)專業(yè)委員會(huì)
起草單位：中國疾病預(yù)防控制中心輻射防護(hù)與核安全醫(yī)學(xué)所
發(fā)布部門：中華人民共和國衛(wèi)生部

標(biāo)準(zhǔn)簡介

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了低能γ射線粒子源植入治療腫瘤的應(yīng)用質(zhì)量和對(duì)放射衛(wèi)生防護(hù)要求。本標(biāo)準(zhǔn)適用于臨床近距離植入治療腫瘤使用的低能γ粒子源，源活度用井型電離室進(jìn)行檢測。

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