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平面磁控濺射靶材 光學薄膜用硅靶
平面磁控濺射靶材 光學薄膜用硅靶 現行
Flat magneting sputtering target—Silicon target for optical coating
標準號：YS/T 719-2009
基本信息
標準號：YS/T 719-2009
發布時間：2009-12-04
實施時間：2010-06-01
首發日期：
出版單位：中國標準出版社查看詳情>
起草人：李智超、楊太禮、付勇、段玉玲、張向東、趙倫
出版機構：中國標準出版社
標準分類： 稀有高熔點金屬及其化合物
ICS分類：其他有色金屬產品
提出單位：全國有色金屬標準化技術委員會
起草單位：利達光電股份有限公司
歸口單位：全國有色金屬標準化技術委員會
發布部門：中華人民共和國工業和信息化部
主管部門：全國有色金屬標準化技術委員會
標準簡介
本標準規定了平面磁控濺射光學薄膜用硅靶材的要求、試驗方法、檢驗規則、標志、包裝、運輸、貯存及訂貨單（或合同）內容。 本標準適用于平面磁控濺射光學薄膜用硅靶材。
標準摘要
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本標準由全國有色金屬標準化技術委員會提出并歸口。 本標準負責起草單位:利達光電股份有限公司。 本標準主要起草人:李智超、楊太禮、付勇、段玉玲、張向東、趙倫。 |
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