掩模缺陷檢查系統靈敏度分析所用的特制缺陷掩模和評估測量方法準則 現行
Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysis of mask defect inspection systems
標準號：GB/T 17866-1999
基本信息
標準號：GB/T 17866-1999
發布時間：1999-09-01
實施時間：2000-06-01
首發日期：1999-09-13
出版單位：中國標準出版社查看詳情>
起草人：
出版機構：中國標準出版社
標準分類： 半導體集成電路
ICS分類：集成電路、微電子學
起草單位：中國科學院微電子中心
歸口單位：全國半導體材料和設備標準化技術委員會
發布部門：國家質量技術監督局
主管部門：國家標準化管理委員會
標準簡介
本標準的目的是制定一套可用于評估掩模缺陷檢查系統靈敏度的測試掩模。這套測試掩模包括：含特制圖形缺陷的測試芯片，以及不含特制圖形缺陷的參考測試芯片。由于測試芯片是由各種單集合而成，所以在本標準中，測試芯片是用單圖形、單圖形中的特制缺陷、以及單的布局來定義的。此外，測試掩模是通過規定測試芯片的排列來定義的。本標準還講述這套掩模的用法。
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