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黃金制品鍍層成分的 X 射線能譜測量方法
黃金制品鍍層成分的 X 射線能譜測量方法 已作廢
Surface composition analysis method of gold-plated products by EDX
標準號：GB/T 17723-1999
基本信息
標準號：GB/T 17723-1999
發布時間：1999-04-01
實施時間：1999-01-02
首發日期：1999-04-11
出版單位：中國標準出版社查看詳情>
起草人：
作廢日期：2009-05-01
出版機構：中國標準出版社
標準分類： 電子光學與其他物理光學儀器
ICS分類：光學設備
起草單位：北京有色金屬研究總院
歸口單位：全國微束分析標準化技術委員會
發布部門：國家質量技術監督局
主管部門：國家標準化管理委員會
標準簡介
本標準規定了應用掃描電鏡X射線能譜儀（包括裝有X射線能譜儀的電子探針儀）對鍍金制品表面金及金合金單層均勻鍍層成分的非破壞性分析測量方法。本標準適用于表面鍍金及金合金，其鍍層厚度為0.2μm以上，3μm以下范圍內的成分測量(不包括基體和金鍍層材料相近的鍍層成分的測量)。
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