工業鎵化學分析方法 雜質素的測定 電感耦合等離子體原子發射光譜法 現行
Chemical analysis emthods of gallium for industrial use--Determination of impurity elements--Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
標準號：YS/T 666-2008
基本信息
標準號：YS/T 666-2008
發布時間：2008-03-12
實施時間：2008-09-01
首發日期：
出版單位：中國標準出版社查看詳情>
起草人：梁倩、王書勤、王曉雯、張予秋、張新宇
出版機構：中國標準出版社
標準分類： 輕金屬及其合金分析方法
ICS分類：其他有色金屬及其合金
提出單位：全國有色金屬標準化技術委員會
起草單位：中國鋁業股份有限公司河南分公司;中國有色金屬工業標準計量質量研究所
歸口單位：全國有色金屬標準化技術委員會
發布部門：國家發展和改革委員會
標準簡介
本標準規定了工業鎵中硅、鈉、鉀、鎂、鈣、鋁含量的測定方法。本標準適用于工業鎵[99.9%≤ω(%)≤99.995%]中硅、鈉、鉀、鎂、鈣、鋁含量的測定。
標準摘要
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本標準附錄A 為資料性附錄。 本標準由全國有色金屬標準化技術委員會提出并歸口。 本標準由中國鋁業股份有限公司河南分公司、中國有色金屬工業標準計量質量研究所負責起草。 本標準由中國鋁業股份有限公司山東分公司、中國鋁業股份有限公司貴州分公司參加起草。 本標準主要起草人:梁倩、王書勤、王曉雯、張予秋、張新宇。 |
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