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光學(xué)和光學(xué)儀器　環(huán)境試驗(yàn)方法　第12部分：污染 現(xiàn)行

Optics and optical instruments—Environmental test methods—Part 12:Contamination

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 12085.12-2010

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基本信息

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 12085.12-2010
發(fā)布時(shí)間：2011-01-14
實(shí)施時(shí)間：2011-05-01
首發(fā)日期：1989-12-29
出版單位：中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)出版社查看詳情>
起草人：章慧賢、馮瓊輝、曾麗珠、葉慧
出版機(jī)構(gòu)：中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)出版社
標(biāo)準(zhǔn)分類： 光學(xué)儀器綜合
ICS分類：光學(xué)設(shè)備
提出單位：中國(guó)機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)
起草單位：上海理工大學(xué)、寧波永新光學(xué)股份有限公司
歸口單位：全國(guó)光學(xué)和光子學(xué)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC 103)
發(fā)布部門：中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局 中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
主管部門：全國(guó)光學(xué)和光子學(xué)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC 103)

標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)介

本部分規(guī)定了污染試驗(yàn)條件、條件試驗(yàn)、試驗(yàn)程序及環(huán)境試驗(yàn)標(biāo)記。本部分中所指的“污染”的含義是腐蝕性化學(xué)物質(zhì)1)(以下稱試劑)同光學(xué)儀器的接觸。本部分適用于光學(xué)儀器、裝有光學(xué)零部件的儀器和光學(xué)零部件。1) 不包括放射性元素和同位素及危險(xiǎn)性化學(xué)物質(zhì)如2,2-二氧二乙硫醚。本部分不適用于作為正常的生產(chǎn)控制。本試驗(yàn)?zāi)康氖茄芯績(jī)x器,尤其是儀器的表面、涂層或合成材料短時(shí)間內(nèi)暴露在試劑中的抵抗能力。試驗(yàn)通常只用于在使用期有可能遭受污染的儀器選擇材料或元件時(shí)參考。

標(biāo)準(zhǔn)摘要

GB/T12085《光學(xué)和光學(xué)儀器 環(huán)境試驗(yàn)方法》分為以下16個(gè)部分:
———第1部分:術(shù)語(yǔ)、試驗(yàn)范圍;
———第2部分:低溫、高溫、濕熱;
———第3部分:機(jī)械作用力;
———第4部分:鹽霧;
———第5部分:低溫、低氣壓綜合試驗(yàn);
———第6部分:砂塵;
———第7部分:滴水、淋雨;
———第8部分:高壓、低壓、浸沒(méi);
———第9部分:太陽(yáng)輻射;
———第10部分:振動(dòng)(正弦)與高溫、低溫綜合試驗(yàn);
———第11部分:長(zhǎng)霉;
———第12部分:污染;
———第13部分:沖擊、碰撞或自由跌落與高溫、低溫綜合試驗(yàn);
———第14部分:露、霜、冰;
———第15部分:寬帶隨機(jī)振動(dòng)(數(shù)字控制)與高溫、低溫綜合試驗(yàn);
———第16部分:彈跳或恒加速度與高溫、低溫綜合試驗(yàn)。
本部分為GB/T12085的第12部分。
本部分修改采用ISO9022-12:1994《光學(xué)和光學(xué)儀器 環(huán)境試驗(yàn)方法 第12部分:污染》。
本部分與ISO9022-12:1994的主要差異如下:
———?jiǎng)h除國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的序言和前言;
———根據(jù)ISO9022-12第1章及我國(guó)標(biāo)準(zhǔn)用語(yǔ)習(xí)慣作了重新編寫(xiě);
———“國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)本部分”一詞改為“本部分”。
本部分代替GB/T12085.12—1989《光學(xué)和光學(xué)儀器 環(huán)境試驗(yàn)方法 污染》,與GB/T12085.12—1989的主要差異為:
———合并了范圍與試驗(yàn)?zāi)康?
———增加了試驗(yàn)程序的總則,規(guī)定了相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)的依據(jù);
———增加了環(huán)境試驗(yàn)的標(biāo)記名稱,修改了相應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)號(hào)的編寫(xiě);
———調(diào)整了附錄A 的標(biāo)準(zhǔn)編寫(xiě)結(jié)構(gòu)。
本部分的附錄A 為規(guī)范性附錄。
本部分由中國(guó)機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)提出。
本部分由全國(guó)光學(xué)和光子學(xué)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC103)歸口。
本部分起草單位:上海理工大學(xué)、寧波永新光學(xué)股份有限公司。
本部分主要起草人:章慧賢、馮瓊輝、曾麗珠、葉慧。
本部分所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為:
———GB/T12085.12—1989。

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