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半導體生產設施電磁兼容性要求 現行

Requirements for semiconductor manufacturing facility electromagnetic compatibility

標準號：GB/T 30116-2013

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基本信息

標準號：GB/T 30116-2013
發(fā)布時間：2013-12-17
實施時間：2014-04-15
首發(fā)日期：
出版單位：中國標準出版社查看詳情>
起草人：黃英華、譚建國、劉軍、周歷群、鐘華、馮亞彬
出版機構：中國標準出版社
標準分類： 電子工業(yè)生產設備綜合
ICS分類：  31.550
提出單位：全國半導體設備與材料標準化技術委員會(SAC/TC 203)
起草單位：工業(yè)和信息化部電子工業(yè)標準化研究院、安徽鑫陽電子有限公司
歸口單位：全國半導體設備與材料標準化技術委員會(SAC/TC 203)
發(fā)布部門：中華人民共和國國家質量監(jiān)督檢驗檢疫總局 中國國家標準化管理委員會
主管部門：全國半導體設備與材料標準化技術委員會(SAC/TC 203)

標準簡介

本標準規(guī)定了為保證半導體生產設施與用于生產半導體器件的設備能一起可靠運行的電磁兼容性(EMC)要求。本標準適用于生產半導體器件的設施和設備,這些設施和設備涵蓋所有的設施警報、安全、通信與控制系統(tǒng)、工藝設備、測量設備、自動化設備以及信息技術設備。本標準不適用于集成電路的封裝與功能測試所采用的設備和設施,也不適用于可能在半導體生產過程中產生的靜電。

標準摘要

本標準按照GB/T1.1—2009給出的規(guī)則起草。
請注意本文件的某些內容可能涉及專利。本文件的發(fā)布機構不承擔識別這些專利的責任。
本標準由全國半導體設備與材料標準化技術委員會(SAC/TC203)提出并歸口。
本標準起草單位:工業(yè)和信息化部電子工業(yè)標準化研究院、安徽鑫陽電子有限公司。
本標準主要起草人:黃英華、譚建國、劉軍、周歷群、鐘華、馮亞彬。

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引用標準

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采標情況

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