當(dāng)前位置:
首頁 >
硅片直徑測量方法 光學(xué)投影法

Silicon slices and wafers-Measuring of diameter-Optical projecting method
標(biāo)準(zhǔn)號:GB/T 14140.1-1993
基本信息
標(biāo)準(zhǔn)號:GB/T 14140.1-1993
發(fā)布時(shí)間:1993-02-06
實(shí)施時(shí)間:1993-10-01
首發(fā)日期:1993-02-06
起草人:
作廢日期:2010-06-01
標(biāo)準(zhǔn)分類: 半金屬
ICS分類:金屬材料試驗(yàn)綜合
起草單位:洛陽單晶硅廠
歸口單位:全國半導(dǎo)體材料和設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)
發(fā)布部門:國家技術(shù)監(jiān)督局
主管部門:國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
標(biāo)準(zhǔn)簡介
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用光學(xué)投影儀測量硅片直徑的方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于測量圓形硅片的直徑。測量范圍為聲φ40~φ100mm本標(biāo)準(zhǔn)不適用于測量硅片的不圓度。本標(biāo)準(zhǔn)用作仲裁測量方法。
推薦檢測機(jī)構(gòu)
申請入駐
暫未檢測到相關(guān)機(jī)構(gòu),邀您申請入駐~
推薦認(rèn)證機(jī)構(gòu)
申請入駐
暫未檢測到相關(guān)機(jī)構(gòu),邀您申請入駐~
推薦培訓(xùn)機(jī)構(gòu)
申請入駐
暫未檢測到相關(guān)機(jī)構(gòu),邀您申請入駐~