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電子工業(yè)用氣體 四氟化硅 現(xiàn)行

Gases for electronic industry—Silicon tetrafluoride

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 31058-2014

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基本信息

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 31058-2014
發(fā)布時(shí)間：2014-12-22
實(shí)施時(shí)間：2015-07-01
首發(fā)日期：
出版單位：中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)出版社查看詳情>
起草人：鄧建平、李于教、傅鑄紅、湯有倫、崔學(xué)文、方華、唐安江、周鵬云
出版機(jī)構(gòu)：中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)出版社
標(biāo)準(zhǔn)分類： 工業(yè)氣體與化學(xué)氣體
ICS分類：工業(yè)氣體
提出單位：全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC203)
起草單位：核工業(yè)理化工程研究院華核新技術(shù)開發(fā)公司、佛山市華特氣體有限公司、綠菱電子材料(天津)有限公司、上海華愛色譜分析技術(shù)有限公司、貴州大學(xué)、西南化工研究設(shè)計(jì)院有限公司
歸口單位：全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC203)
發(fā)布部門：中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局 中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
主管部門：國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)介

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了四氟化硅的技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存等內(nèi)容。本標(biāo)準(zhǔn)適用于螢石硫酸法、六氟硅酸鹽熱分解法、單質(zhì)硅直接氟化法制備的四氟化硅。它主要用作電子工業(yè)中等離子蝕刻、發(fā)光二極管 P形摻雜、離子注入工藝、外延沉積擴(kuò)散的硅源和光導(dǎo)纖維用高純石英玻璃的原料,也是生產(chǎn)多晶硅的重要原料。分子式:SiF4。相對(duì)分子質(zhì)量:104.0786128(按2009年國(guó)際原子相對(duì)質(zhì)量)。

標(biāo)準(zhǔn)摘要

本標(biāo)準(zhǔn)按照 GB/T1.1—2009給出的規(guī)則起草。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC203)提出并歸口。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:核工業(yè)理化工程研究院華核新技術(shù)開發(fā)公司、佛山市華特氣體有限公司、綠菱電子材料(天津)有限公司、上海華愛色譜分析技術(shù)有限公司、貴州大學(xué)、西南化工研究設(shè)計(jì)院有限公司。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:鄧建平、李于教、傅鑄紅、湯有倫、崔學(xué)文、方華、唐安江、周鵬云。

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