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硅片參考面結晶學取向X射線測試方法
硅片參考面結晶學取向X射線測試方法 現行
Method for measuring crystallographic orientation of flats on single-crystal silicon slices and wafers by X-ray techniques
標準號：GB/T 13388-2009
基本信息
標準號：GB/T 13388-2009
發布時間：2009-10-30
實施時間：2010-06-01
首發日期：1992-02-19
出版單位：中國標準出版社查看詳情>
起草人：
出版機構：中國標準出版社
標準分類： 半金屬與半導體材料綜合
ICS分類：半導體材料
起草單位：有研半導體材料股份有限公司
歸口單位：全國半導體設備和材料標準化技術委員會材料分技術委員會
發布部門：中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局 中國國家標準化管理委員會
主管部門：全國半導體設備和材料標準化技術委員會材料分技術委員會
標準簡介
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