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焦深與最佳聚焦的測量規(guī)范 現(xiàn)行

Specification for measuring depth of focus and best focus

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 17865-1999

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基本信息

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 17865-1999
發(fā)布時(shí)間：1999-09-01
實(shí)施時(shí)間：2000-06-01
首發(fā)日期：1999-09-13
出版單位：中國標(biāo)準(zhǔn)出版社查看詳情>
起草人：陳寶欽、陳森錦、廖溫初、劉明
出版機(jī)構(gòu)：中國標(biāo)準(zhǔn)出版社
標(biāo)準(zhǔn)分類： 半導(dǎo)體集成電路
ICS分類：集成電路、微電子學(xué)
提出單位：中國科學(xué)院
起草單位：中國科學(xué)院微電子中心
歸口單位：SEMI中國標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)
發(fā)布部門：國家質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督局
主管部門：國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

標(biāo)準(zhǔn)簡介

本標(biāo)準(zhǔn)只涉及集成電路生產(chǎn)中所用的光刻技術(shù)及其關(guān)系密切的技術(shù)的聚集與焦深測量問題。由于設(shè)備技術(shù)多種多樣，因而不可能提出這些參數(shù)的明確測量方法。本標(biāo)準(zhǔn)只提供基本準(zhǔn)則。

替代情況

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